Fujifilm will die Kapazitäten für die Entwicklung, Herstellung und Qualitätssicherung modernster Halbleitermaterialien bei FUJIFILM Electronic Materials USA, Inc. erheblich ausbauen. Die US-Tochter des Konzerns für die Entwicklung, Herstellung und Vermarktung von Halbleitermaterialien wird dafür ab Dezember 2018 über einen Zeitraum von drei Jahren rund 10 Milliarden Yen investieren.
Dabei liegt ein Schwerpunkt auch in der Miniaturisierung von Halbleiterbauelementen, weil durch den wachsenden Einsatz von KI, IoT und den Kommunikationsstandard 5G sowie durch die Weiterentwicklung der Technologie des autonomen Fahrens eine weitere Steigerung der Nachfrage und ein Leistungsschub für Halbleiter erwartet werden.
Fujifilm verfügt über Forschungs-, Entwicklungs-, Fertigungs- und Marketing-Stützpunkte in verschiedenen einschließlich Japan, den Vereinigten Staaten, Taiwan, Südkorea und Belgien, um weltweit eine breite Palette an innovativen Halbleitermaterialien einschließlich Fotoresists, Entwicklern, CMP-Slurries liefern zu können.
Mit dieser Investition erweitert Fujifilm die Anlagen zur Entwicklung, Herstellung und Qualitätssicherung von Halbleitermaterialien in den FEUS-Werken in Arizona und Rhode Island. Am Standort Arizona werden neue Gebäude errichtet, um die Entwicklung von CMP-Schlämmen und hochreinen Lösungsmitteln voranzutreiben. Die neuen Gebäude werden über Reinräume und modernste Inspektionsgeräte verfügen, um die Produktentwicklung zu beschleunigen und die Qualitätssicherungsstruktur zu erweitern. Zusätzliche Investitionen sollen die Produktion von CMP-Slurries erhöhen, um der steigenden Nachfrage gerecht zu werden.
Am Standort Rhode Island werden die Produktionsanlagen erweitert, um fortschrittliche NTI 4-Lösungsmittel herzustellen, die den Marktanforderungen nach einer besseren Reinigung gerecht werden.
